【六甲基二硅氮烷】可用于硅藻土、白炭黑、钛等粉末的表面处理，其作用机理是以硅氮键与硅羟基缩合。

在半导体工业中用作光致刻蚀剂的粘结助剂。在有机硅氮烷化学中【六甲基二硅氮烷】，可以用作与氯硅烷单体进行氯交换，从而获得聚硅氮烷。

这种方法比直接通氨法在合成上有巨大优势。【六甲基二硅氮烷】2(CH3)3SICL+O2=6CO2+2SIO2+8H2O+2HCL2(CH3)3SI-N--SI(CH3)3+6H2O=12CH4+4SIO2+N2直接产物是三甲基硅醇和氨是六【六甲基二硅氮烷】甲基二硅氮烷（HMDS)？

如果是，那么他的分子量为161.

39、每mol为161.39克。主【六甲基二硅氮烷】要用于有机物上羟基的保护反应。

甲基二硅氮烷与水或醇反应被称为HMDS，实际上就是水解反应。主要用在集成电路的制造中，增【六甲基二硅氮烷】加硅片和光刻胶之间的附着力。和硅表面的二氧化硅反应，除去二氧化硅和水反应的羟基，使【六甲基二硅氮烷】其变为疏水性，而光刻胶是疏水的，从而增加了附着力。

甲基二硅氮烷与水或醇反应被称为HMDS，实际上就是水解反应。主【六甲基二硅氮烷】要用在集成电路的制造中，增加硅片和光刻胶之间的附着力。和硅表面的二氧化硅反应，除去二氧化硅和水反应的羟基，使其变为疏水性，而光刻胶是疏水的【六甲基二硅氮烷】，从而增加了附着力。